卷繞式鍍膜機30年來有了較大的發(fā)展，鍍膜產(chǎn)品普遍用于裝飾、包裝、電容器等領域中，可鍍光學、電學、電磁、導電等多種薄膜。所用基材有PE、PET、PI、PP、OPP、BOPP、紙、泡沫塑料及布等。一般塑料基薄膜材料含水量為1%～2%，紙含水量更大，一般為5%-7%，經(jīng)涂布烘干后，含水量仍有3%。由于基材含水量高，故鍍膜室由初始的單室發(fā)展到目前雙室或多室結構。蒸發(fā)源可以是電阻式、感應式、電子柬式以及磁控濺射式。雙室結構應用普遍，其優(yōu)點是：①可以蒸鍍放氣量較大的紙基材，并能保障鍍膜質量。紙放出的大量氣體從卷繞室中被排走。由于卷繞室與蒸鍍室之間隔板窄縫很小，使放出來的氣體不易進入蒸鍍室中；②單室結構必須配置較大的排氣系統(tǒng)才能保障蒸鍍時的工作壓力，而雙室結構中的蒸鍍室氣體量較小，可配小型抽氣機組，使設備成本降低，并節(jié)約能源；③卷繞室與蒸鍍室分別抽氣，可縮短抽氣時間。
  
  卷繞式真空鍍膜機在結構上除了有一般鍍膜機所有的結構外，必須有一個為了實現(xiàn)連續(xù)鍍膜而設置的卷繞機構。由于被鍍基體是紙或塑料，放氣量較大，因此，在真空室的結構上又有單室和多室之分。
  
  卷繞機構設計中應考慮的幾個問題：
  
  ①提高卷繞速度的問題。卷繞速度即是帶狀基材運動的線速度，它是卷繞機構的一個主要技術指櫟。國內早期鍍膜機卷繞速度只有10m/min，現(xiàn)在也只有80m/min～120m/min，在國外日本的EW系列產(chǎn)品中，其卷繞速度已達到300m/min，德國L．H公司生產(chǎn)的鍍膜機已達到600m/min，可見隨著鍍膜技術的發(fā)展，卷繞速度有待提高。
  
  ②帶狀基材的線速恒定問題。這一問題也很重要，因為只有卷繞機構保證帶狀基材的線速恒定，才能使基材上鍍層厚度均勻。這一點對制備帶狀基材的功能性膜（如電容器膜）尤為重要。
  
  ③帶狀基材的跑偏和起褶問題。隨著卷繞速度的提高，帶狀基材在卷繞鍍膜過程中，起褶和發(fā)生偏斜，嚴重時會造成基材的斷裂，使生產(chǎn)中斷，既影響生產(chǎn)效率，又浪費材料。因此，在卷繞機構的設計中應充分考慮這一問題。
  
  卷繞鍍膜機真空抽氣系統(tǒng)分上室下室兩組，下室為蒸鍍室，要求真空度高，主泵多為油擴散泵。上室為基材卷繞室，要求真空度較低，為羅茨泵機組或擴散泵一羅茨泵一機械泵組。一般蒸鍍室要達到的真空度為1x10^-3Pa—2×10^-3Pa，而工作壓力為1×10^-2Pa—2×10^-2Pa，而卷繞室真空度通常較蒸鍍室低一個數(shù)量級。有時卷繞鍍膜機以增擴泵（油擴散泵的一種）為主泵，它的極限壓力雖然不及油擴散泵，但其抽速范圍向高壓方向延伸一個數(shù)量級，非常適宜此類蒸發(fā)的鍍膜過程。
  
  目前國內卷繞式鍍膜機蒸發(fā)源多采用坩堝蒸發(fā)，其材質有氮化硼、石墨、鉬等。氮化硼由于電學及熱學性能好，使用壽命長，因而較為普遍地應用于卷繞鍍膜機中。每個坩堝的加熱功率為6kW—8kW，加熱電壓為10V—12V。坩堝數(shù)量由基材幅寬來確定。輻寬愈寬坩堝數(shù)量愈多。幅寬500mm時4只坩堝，800mm時7只坩堝，1300mm時12只坩堝。坩堝分布是不均勻的，中間部分間距大些，在基材邊緣處間距小，有的較外側坩堝與基材幅寬邊緣重合。

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