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0510-88276101磁控濺射、偏壓電源、條形離子源怎樣匹配合適的功率
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真空鍍膜機(jī)電源（磁控+偏壓）選型計(jì)算示例如下：
一.中頻電源
依據(jù)需要驅(qū)動(dòng)工作的磁控靶有效工作總表面積以及要運(yùn)行的電流密度來(lái) 計(jì)算出所需總電流強(qiáng)度，從而選定中頻電源。舉例如下：假設(shè)負(fù)載為圓柱靶，外徑75mm、有效長(zhǎng)度1100mm，則計(jì)算如下：總電流I = 靶外徑7.5cm * 3.14 *有效長(zhǎng)度110cm * 磁場(chǎng)圓周角度a/總圓周度360 *靶數(shù)2*i 通常，磁場(chǎng)圓周角度a有120和360兩種。用戶(hù)須按磁控靶的真實(shí)結(jié)構(gòu)度數(shù)計(jì)算（此例中假設(shè)a=360）電流密度i可取5～30mA/c㎡。電流密度小，則濺射速率較低；電流密度大，濺射速率相應(yīng)提高，但是需要更強(qiáng)的磁場(chǎng)強(qiáng)度和冷卻速率。在目前的制靶工藝水準(zhǔn)下，推介取i=10～15 mA/c㎡=0.01～0.015 A/c㎡ 。則有 I = 7.5*3.14*110*360/360*2*0.01（～0.015） = 51.8～77.7 A，對(duì)應(yīng)的可以選用50kW中頻電源或70kW中頻電源。如果a=120，則可計(jì)算出選用30kW中頻電源是比較合適的。
特別需要注意的是，如果靶材是鎳或則石墨等，因其起輝較其他靶材更困難，則需要采購(gòu)空載電壓≥1200V的中頻電源，該電源的工作電壓200～1000V，較大輸出電流比標(biāo)準(zhǔn)式電源的相應(yīng)減小20% ，總的輸出功率維持不變。直流磁控以及單極脈沖磁控濺射電源的選型與此類(lèi)似，只不過(guò)考慮磁控靶有效工作總面積時(shí)只需要計(jì)算其驅(qū)動(dòng)的單個(gè)靶面。
用于純粹的磁控濺射或者玻璃鍍膜應(yīng)用的偏壓電源，通常選用10～20kW的單極脈沖偏壓電源就能夠滿(mǎn)足使用要求。其中對(duì)于金屬件鍍膜，可根據(jù)工件的表面積總和來(lái)選取，通常按照每平方米5～10A計(jì)算。
當(dāng)時(shí)用于清洗金屬件材料時(shí)，因其導(dǎo)電性較好則表面電荷不易積累放電，故離子的噴射量可以較大而需要的能量較低，此時(shí)工作電壓上限可以做到1000V至1200V、1.3M長(zhǎng)度的離子源需要電流視工件流轉(zhuǎn)速度可在6～8A之間。
以我們公司做過(guò)的條形離子源來(lái)看，長(zhǎng)度為1000～2000mm的條形離子源，配置電源功率10kW 就基本上滿(mǎn)足全部的使用要求；其額定電壓、電流的上限依據(jù)具體用途而定。
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一.中頻電源
依據(jù)需要驅(qū)動(dòng)工作的磁控靶有效工作總表面積以及要運(yùn)行的電流密度來(lái) 計(jì)算出所需總電流強(qiáng)度，從而選定中頻電源。舉例如下：假設(shè)負(fù)載為圓柱靶，外徑75mm、有效長(zhǎng)度1100mm，則計(jì)算如下：總電流I = 靶外徑7.5cm * 3.14 *有效長(zhǎng)度110cm * 磁場(chǎng)圓周角度a/總圓周度360 *靶數(shù)2*i 通常，磁場(chǎng)圓周角度a有120和360兩種。用戶(hù)須按磁控靶的真實(shí)結(jié)構(gòu)度數(shù)計(jì)算（此例中假設(shè)a=360）電流密度i可取5～30mA/c㎡。電流密度小，則濺射速率較低；電流密度大，濺射速率相應(yīng)提高，但是需要更強(qiáng)的磁場(chǎng)強(qiáng)度和冷卻速率。在目前的制靶工藝水準(zhǔn)下，推介取i=10～15 mA/c㎡=0.01～0.015 A/c㎡ 。則有 I = 7.5*3.14*110*360/360*2*0.01（～0.015） = 51.8～77.7 A，對(duì)應(yīng)的可以選用50kW中頻電源或70kW中頻電源。如果a=120，則可計(jì)算出選用30kW中頻電源是比較合適的。
特別需要注意的是，如果靶材是鎳或則石墨等，因其起輝較其他靶材更困難，則需要采購(gòu)空載電壓≥1200V的中頻電源，該電源的工作電壓200～1000V，較大輸出電流比標(biāo)準(zhǔn)式電源的相應(yīng)減小20% ，總的輸出功率維持不變。直流磁控以及單極脈沖磁控濺射電源的選型與此類(lèi)似，只不過(guò)考慮磁控靶有效工作總面積時(shí)只需要計(jì)算其驅(qū)動(dòng)的單個(gè)靶面。
二. 偏壓電源
用于純粹的磁控濺射或者玻璃鍍膜應(yīng)用的偏壓電源，通常選用10～20kW的單極脈沖偏壓電源就能夠滿(mǎn)足使用要求。其中對(duì)于金屬件鍍膜，可根據(jù)工件的表面積總和來(lái)選取，通常按照每平方米5～10A計(jì)算。
三. 條形離子源電源估算
當(dāng)時(shí)用于清洗金屬件材料時(shí)，因其導(dǎo)電性較好則表面電荷不易積累放電，故離子的噴射量可以較大而需要的能量較低，此時(shí)工作電壓上限可以做到1000V至1200V、1.3M長(zhǎng)度的離子源需要電流視工件流轉(zhuǎn)速度可在6～8A之間。
以我們公司做過(guò)的條形離子源來(lái)看，長(zhǎng)度為1000～2000mm的條形離子源，配置電源功率10kW 就基本上滿(mǎn)足全部的使用要求；其額定電壓、電流的上限依據(jù)具體用途而定。
四.余量考慮
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上一個(gè)：磁控濺射中靶中毒是怎么回事，一般的影響因素是什么？
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