我們所了解的真空鍍膜應(yīng)用是真空應(yīng)用中的一個(gè)大分支，在光學(xué)、電子學(xué)、理化儀器、包裝、機(jī)械以及表面處理技術(shù)等眾多方面有著十分廣的應(yīng)用。為了讓大家更詳細(xì)的了解真空鍍膜的應(yīng)用，以下為您介紹真空鍍膜應(yīng)用。
簡(jiǎn)單地理解就是在真空環(huán)境下，利用蒸鍍、濺射以及隨后凝結(jié)的辦法，在金屬、玻璃、陶瓷、半導(dǎo)體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。相對(duì)于傳統(tǒng)鍍膜方式，真空鍍膜應(yīng)用屬于一種干式鍍膜，它的主要方法包括以下幾種：
濺射鍍膜
濺射鍍膜是真空條件下，在陰極接上2000V電力，激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過(guò)惰性氣氛沉積到基片上形成膜層。
真空蒸鍍
其原理是在真空條件下，用蒸發(fā)器加熱帶蒸發(fā)物質(zhì)，使其氣化或升華，蒸發(fā)離子流直接射向基片，并在基片上沉積析出固態(tài)薄膜的技術(shù)。
真空卷繞鍍膜
真空卷繞鍍膜是一種利用物理的氣相沉積的方法在柔性基體上連續(xù)鍍膜的技術(shù)，以實(shí)現(xiàn)柔性基體的一些功能性、裝飾性屬性。
離子鍍膜

即干式螺桿真空泵廠家已經(jīng)介紹過(guò)的真空離子鍍膜。它是在上面兩種真空鍍膜技術(shù)基礎(chǔ)上發(fā)展而來(lái)的，因此兼有兩者的工藝特點(diǎn)。在真空條件下，利用氣體放電使工作氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)（膜材）部分離化，并在離子轟擊下，將蒸發(fā)物或其反應(yīng)物沉積在基片表面。在膜的形成過(guò)程中，基片始終受到高能粒子的轟擊，十分清潔。

上述四種都屬于物理的氣相沉積技術(shù)應(yīng)用（PVD）。
接下來(lái)是束流沉積鍍，結(jié)合了離子注入與氣相沉積鍍膜技術(shù)的離子表面復(fù)合處理技術(shù)，是一種利用離化的粒子作為蒸鍍材料，在比較低的基片溫度下，形成具有良好特性薄膜的技術(shù)?；瘜W(xué)氣相沉積（CVD）。它是以化學(xué)反應(yīng)的方式制作薄膜，原理是一定溫度下，將含有制膜材料的反應(yīng)氣體通到基片上并被吸附，在基片上產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)形成核，隨后反應(yīng)生成物脫離基片表面不斷擴(kuò)散形成薄膜。
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