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0510-88276101真空工藝應(yīng)用、真空鍍膜實(shí)操細(xì)節(jié)
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01、真空
真空技術(shù)是基本實(shí)驗(yàn)技術(shù)之一。自從1643年托里拆利做了有關(guān)大氣壓力實(shí)驗(yàn)，發(fā)現(xiàn)了真空現(xiàn)象以后，真空技術(shù)迅速發(fā)展?，F(xiàn)在，真空技術(shù)已經(jīng)成為一門前沿學(xué)科。
它的基本內(nèi)容包括:真空物理、真空的獲得、真空的測(cè)量和檢漏、真空系統(tǒng)的設(shè)計(jì)和計(jì)算等。隨著表面科學(xué)、空間科學(xué)高能粒子加速器、微電子學(xué)、薄膜技術(shù)、冶金工業(yè)以及材料學(xué)等科技的發(fā)展，真空技術(shù)在近代科學(xué)技術(shù)中的地位越來(lái)越重要?！?/span>
02、不同真空狀態(tài)下真空工藝應(yīng)用
氣體狀態(tài)與常壓相比只是分子數(shù)量的減少，沒有氣體空間特性的變化，分子間碰撞頻繁，此時(shí)的吸附氣體釋放可以不子考慮，氣體運(yùn)動(dòng)以粘滯流為主。主要是利用壓力差產(chǎn)生的力未實(shí)現(xiàn)真空力學(xué)應(yīng)用（真空吸引或運(yùn)輸固體、液體、膠體等，真空吸盤起重，真空過濾）。
低真空(1000-0.lPa)
氣體分子間，分子與器壁間碰撞不相上下，氣體分子密度較小，氣體釋放也可不考慮，氣體運(yùn)動(dòng)以中間流為主。利用氣體分子密度降低可實(shí)現(xiàn)無(wú)氧化加熱，利用氣壓降低時(shí)氣體的熱傳導(dǎo)和對(duì)流逐漸消失的原理可以實(shí)現(xiàn)真空隔熱及絕緣，利用壓強(qiáng)降低液體沸點(diǎn)也降低的原理實(shí)現(xiàn)真空冷凍和真空干燥（黑色金屬真空熔煉脫氣，真空絕緣和真空隔熱，真空冷凍及干燥，高速空氣動(dòng)力學(xué)實(shí)驗(yàn)中的低壓鳳洞）。
高真空(0.1-0.000001Pa)
氣體分子間相互碰撞極少，氣體分子與器壁間碰撞頻繁，氣體運(yùn)動(dòng)以分子流為主，此時(shí)的氣體釋放是影響真空度及抽氣時(shí)間的一個(gè)主要原因。利用氣體分子密度低，任何物質(zhì)與氣體殘余分子發(fā)生化學(xué)作用微弱的特點(diǎn)進(jìn)行真空冶金，真空錠膜（超純?nèi)珜?、半?dǎo)體材料的真空提純及精制，真空錠膜，離子注入、干法刻蝕等表面改性，真空器件的生產(chǎn)：光電管、各種拉子加速器等）。
超高真空(>0.0000001Pa)
氣體分子與器壁的碰撞次數(shù)極少，氣體空間只有固體本身的原子，幾乎沒有別的分子或原子的存在，此時(shí)壓強(qiáng)的升高除了泄漏外主要就是器壁分子的釋放。應(yīng)用：宇宙空間環(huán)境的模擬，大型同步質(zhì)子加速器的運(yùn)轉(zhuǎn)。
因此，要想獲得較好品質(zhì)的薄膜就必須有一個(gè)比較理想的本底真空。
01、準(zhǔn)備工作
1、開啟設(shè)備總電源， 穩(wěn)壓器，確認(rèn)三相供電電壓正常：370—440V；
2、開啟電容補(bǔ)償器；
3、確認(rèn)水池冷卻水水量充足（見浮標(biāo)尺）打開循環(huán)水泵；
4、根據(jù)工藝要求，確定是否需要啟動(dòng)冷水機(jī)以及啟動(dòng)幾臺(tái)冷水機(jī)；啟動(dòng)前應(yīng)確認(rèn)冷水機(jī)入口水壓1.5-3kg，內(nèi)部增壓泵旋轉(zhuǎn)正常，可采用自動(dòng)或手動(dòng)方式啟動(dòng)；
5、 確認(rèn)各部分冷卻水循環(huán)系統(tǒng)完好，確認(rèn)擴(kuò)散泵循環(huán)水工作正常，緊急冷卻系統(tǒng)準(zhǔn)備就緒；
6、 確認(rèn)工藝氣體氣壓不低于2個(gè)大氣壓
7、 裝基膜
A、 領(lǐng)膜
B、 裝軸
C、 裝膜
D、 按任務(wù)書車速要求設(shè)置鍍膜速度、張力；
E、 試卷
8、 按生產(chǎn)任務(wù)書要求確認(rèn)各靶位、布?xì)庀到y(tǒng)、電源配置正確，靶材量充足，確認(rèn)無(wú)其他物品遺忘在真空室內(nèi)或小車上，關(guān)閉真空室。
02、抽真空
1 、擴(kuò)散泵預(yù)加熱（約需40分鐘）：?jiǎn)?dòng)維持泵，確認(rèn)運(yùn)轉(zhuǎn)正常后，打開維持閥（燈亮） ，逐一打開擴(kuò)散泵；
2 、低抽：確認(rèn)真空室門已關(guān)閉啟動(dòng)計(jì)算機(jī)，進(jìn)入鍍膜系統(tǒng)監(jiān)控程序，充氣閥關(guān)閉，啟動(dòng)機(jī)械泵（1、2），確認(rèn)機(jī)械泵正常運(yùn)行后，開預(yù)抽閥，五分鐘后打開復(fù)合真空計(jì)，打開羅茨
泵開關(guān)，。（當(dāng)真空達(dá)到1500Pa時(shí)，羅茨泵允許信號(hào)燈（紅燈）亮，再延遲25秒后，羅茨泵自動(dòng)啟動(dòng)） ；
3 、高抽：當(dāng)羅茨泵啟動(dòng)五分鐘后，打開熱偶真空計(jì)，當(dāng)真空度達(dá)到5Pa時(shí)，開高閥允許信號(hào)燈（紅燈）亮，此時(shí)確認(rèn)擴(kuò)散泵預(yù)熱已完成 （加熱40分鐘或油窗油面達(dá)到規(guī)定位置情況下），關(guān)閉預(yù)抽閥，依次打開各前級(jí)閥，關(guān)維持閥、關(guān)維持泵。依次打開各路高閥，確認(rèn)到位開關(guān)燈亮，開始高抽。真空度進(jìn)入10 -2 Pa后，打開電離真空計(jì)測(cè)量高真空，直到工藝規(guī)定的背景真空，真空進(jìn)入6×10-3Pa后，打開靶電源總開關(guān)及透過率分析儀預(yù)熱，與計(jì)算機(jī)系統(tǒng)完成通訊連接；
1、 確認(rèn)已達(dá)背景真空， 關(guān)閉電離真空計(jì)， 打開冷輥、 隔離槽、靶電源、冷卻水，確認(rèn)工作正常；
2、 打開所需各路供氣電磁閥，抽取殘留雜質(zhì)氣體，確認(rèn)到達(dá)背景真空，按工藝要求設(shè)置各路氣體流量，打開總氣閥、減壓閥、氣體控制器開關(guān)，用中真空計(jì)觀察工藝氣體總壓，穩(wěn)定后進(jìn)行透過率分析儀初始化整定（此時(shí)需關(guān)閉真空室照明燈） ；
3、 鍍膜：?jiǎn)?dòng)傳動(dòng)系統(tǒng)，確認(rèn)收放卷工作正常，按靶 1—靶 5 依次設(shè)置各靶鍍膜功率， 關(guān)照明燈， 觀察記錄透過率變化情況，開照明燈，觀察鍍膜后剩余反射光、外觀、顏色、質(zhì)量是否符合工藝要求，在穩(wěn)定工作的情況下，做好工藝記錄，不斷巡查設(shè)備運(yùn)轉(zhuǎn)狀況，合理處置各種隨機(jī)問題，鍍膜結(jié)束時(shí)，依次關(guān)閉傳動(dòng)、靶電源，工藝氣體、冷卻水、 （擴(kuò)散泵水除外），依次關(guān)閉各路高閥，啟動(dòng)維持泵，開維持閥，依次關(guān)各路前級(jí)閥、羅茨泵、機(jī)械泵、各真空測(cè)量?jī)x，對(duì)冷輥升溫，如不繼續(xù)鍍膜，關(guān)閉擴(kuò)散泵，保持冷卻水，降溫 3 小時(shí)后，關(guān)維持閥和維持泵；
04、恢復(fù)大氣壓力
確認(rèn)冷輥高于溫度后，打開充氣閥，充氣完成后，打開真空室門
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