真空

真空的含義是指在給定的空間內(nèi)低于一個大氣壓力的氣體狀態(tài)，是一種物理現(xiàn)象。在“虛空”中，聲音因為沒有介質(zhì)而無法傳遞，但電磁波的傳遞卻不受真空的影響。事實上，在真空技術(shù)里，真空系針對大氣而言，一特定空間內(nèi)部之部份物質(zhì)被排出，使其壓力小于一個標(biāo)準(zhǔn)大氣壓，則我們通稱此空間為真空或真空狀態(tài)。


不同真空狀態(tài)下真空工藝的應(yīng)用
粗真空(100000-1000Pa)
氣體狀態(tài)與常壓相比只是分子數(shù)量的減少，沒有氣體空間特性的變化，分子間碰撞頻繁，此時的吸附氣體釋放可以不做考慮，氣體運(yùn)動以粘滯流為主。主要是利用壓力差產(chǎn)生的力來實現(xiàn)真空力學(xué)應(yīng)用（真空吸引或運(yùn)輸固體、液體、膠體等，真空吸盤起重，真空過濾）。
低真空(1000-0.1Pa)
氣體分子間，分子與器壁間碰撞不相上下，氣體分子密度較小，氣體釋放也可不考慮，氣體運(yùn)動以中間流為主。利用氣體分子密度降低可實現(xiàn)無氧化加熱，利用氣壓降低時氣體的熱傳導(dǎo)和對流逐漸消失的原理可以實現(xiàn)真空隔熱及絕緣，利用壓強(qiáng)降低液體沸點(diǎn)也降低的原理實現(xiàn)真空冷凍和真空干燥（黑色金屬真空熔煉脫氣，真空絕緣和真空隔熱，真空冷凍及干燥，高速空氣動力學(xué)實驗中的低壓風(fēng)洞）。
高真空(0.1-0.000001Pa)
氣體分子間相互碰撞極少，氣體分子與器壁間碰撞頻繁，氣體運(yùn)動以分子流為主，此時的氣體釋放是影響真空度及抽氣時間的一個主要原因。利用氣體分子密度低，任何物質(zhì)與氣體殘余分子發(fā)生化學(xué)作用微弱的特點(diǎn)進(jìn)行真空冶金，真空鍍膜（超純?nèi)珜佟雽?dǎo)體材料的真空提純及精制，真空鍍膜，離子注入、干法刻蝕等表面改性，真空器件的生產(chǎn)：光電管、各種拉子加速器等）。
超高真空(>0.0000001Pa)
氣體分子與器壁的碰撞次數(shù)極少，氣體空間只有固體本身的原子，幾乎沒有別的分子或原子的存在，此時壓強(qiáng)的升高除了泄漏外主要就是器壁分子的釋放。應(yīng)用：宇宙空間環(huán)境的模擬，大型同步質(zhì)子加速器的運(yùn)轉(zhuǎn)。



真空鍍膜操作規(guī)范



· 準(zhǔn)備工作
1）開啟設(shè)備總電源， 穩(wěn)壓器，確認(rèn)三項供電電壓正常：370—440V；
2）開啟電容補(bǔ)償器；
3）確認(rèn)水池冷卻水水量充足（見浮標(biāo)尺）打開循環(huán)水泵；
4）根據(jù)工藝要求，確定是否需要啟動冷水機(jī)以及啟動幾臺冷水機(jī)；啟動前應(yīng)確認(rèn)冷水機(jī)入口水壓1.5-3kg，內(nèi)部增壓泵旋轉(zhuǎn)正常，可采用自動或手動方式啟動；
5）確認(rèn)各部分冷卻水循環(huán)系統(tǒng)完好，確認(rèn)擴(kuò)散泵循環(huán)水工作正常，緊急冷卻系統(tǒng)準(zhǔn)備就緒；
6）確認(rèn)工藝氣體氣壓不低于20個大氣壓
7）裝基膜
A、領(lǐng)膜：鍍膜工按照生產(chǎn)任務(wù)單要求，從凈化室中領(lǐng)導(dǎo)基膜時，應(yīng)檢查該膜是否合格，有無花紋、斑點(diǎn)、劃傷、污跡、收卷是否整齊等直接觀測到的問題，如有應(yīng)立即向生產(chǎn)主管報告，以決定是否采用。
B、裝軸：操作時必須帶手套，將合格的基膜放在膜托架上，取一對尺寸相同的軸安裝好，安裝時請注意膜的正反面，確認(rèn)一切準(zhǔn)備就緒，即可吊裝，吊裝時必須輕拿輕放，嚴(yán)禁碰撞，必須保持基膜水平，以免膜打滑引起螺紋狀；
C、裝膜：確認(rèn)冷輥無冷凝水后，即可裝膜，裝膜時不要對著膜講話，以保持膜面干凈。注意不要碰透過率分析儀的探頭，裝膜時應(yīng)保證膜在冷輥的中心；
D、按任務(wù)書車速要求設(shè)置鍍膜速度、張力；
E、試卷
8）按生產(chǎn)任務(wù)書要求確認(rèn)各靶位、布?xì)庀到y(tǒng)、電源配置正確，靶材量充足，確認(rèn)無其他物品遺忘在真空室內(nèi)或小車上，關(guān)閉真空室。
· 抽真空
1）擴(kuò)散泵預(yù)加熱（約需40分鐘）：啟動維持泵，確認(rèn)運(yùn)轉(zhuǎn)正常后，打開維持閥（燈亮） ，逐一打開擴(kuò)散泵；
2）低抽：確認(rèn)真空室門已關(guān)閉啟動計算機(jī)，進(jìn)入鍍膜系統(tǒng)監(jiān)控程序，充氣閥關(guān)閉，啟動機(jī)械泵（1、2），確認(rèn)機(jī)械泵正常運(yùn)行后，開預(yù)抽閥，五分鐘后打開復(fù)合真空計，打開羅茨泵開關(guān)，。（當(dāng)真空達(dá)到1500Pa時，羅茨泵允許信號燈（紅燈）亮，再延遲25秒后，羅茨泵自動啟動） ；
3）高抽：當(dāng)羅茨泵啟動五分鐘后，打開熱偶真空計，當(dāng)真空度達(dá)到5Pa時，開高閥允許信號燈（紅燈）亮，此時確認(rèn)擴(kuò)散泵預(yù)熱已完成 （加熱40分鐘或油窗油面達(dá)到規(guī)定位置情況下），關(guān)閉預(yù)抽閥，依次打開各前級閥，關(guān)維持閥、關(guān)維持泵。依次打開各路高閥，確認(rèn)到位開關(guān)燈亮，開始高抽。真空度進(jìn)入10 -2 Pa后，打開電離真空計測量高真空，直到工藝規(guī)定的背景真空，真空進(jìn)入6×10-3Pa后，打開靶電源總開關(guān)及透過率分析儀預(yù)熱，與計算機(jī)系統(tǒng)完成通訊連接；
· 鍍膜
1）確認(rèn)已達(dá)背景真空，關(guān)閉電離真空計，打開冷輥、隔離槽、靶電源、冷卻水，確認(rèn)工作正常；
2）打開所需各路供氣電磁閥，抽取殘留雜質(zhì)氣體，確認(rèn)到達(dá)背景真空，按工藝要求設(shè)置各路氣體流量，打開總氣閥、減壓閥、氣體控制器開關(guān)，用中真空計觀察工藝氣體總壓，穩(wěn)定后進(jìn)行透過率分析儀初始化整定（此時需關(guān)閉真空室照明燈） ；
3）鍍膜：啟動傳動系統(tǒng)，確認(rèn)收放卷工作正常，按靶1—靶5依次設(shè)置各靶鍍膜功率，關(guān)照明燈，觀察記錄透過率變化情況，開照明燈，觀察鍍膜后剩余反射光、外觀、顏色、質(zhì)量是否符合工藝要求，在穩(wěn)定工作的情況下，做好工藝記錄，不斷巡查設(shè)備運(yùn)轉(zhuǎn)狀況，合理處置各種隨機(jī)問題，鍍膜結(jié)束時，依次關(guān)閉傳動、靶電源，工藝氣體、冷卻水、（擴(kuò)散泵水除外），依次關(guān)閉各路高閥，啟動維持泵，開維持閥，依次關(guān)各路前級閥、羅茨泵、機(jī)械泵、各真空測量儀，對冷輥升溫，如不繼續(xù)鍍膜，關(guān)閉擴(kuò)散泵，保持冷卻水，降溫3小時后，關(guān)維持閥和維持泵；
· 恢復(fù)大氣壓力
確認(rèn)冷輥高于溫度后，打開充氣閥，充氣完成后，打開真空室門
· 檢驗

在收卷一側(cè)壓緊輥處用記號筆標(biāo)記鍍膜終止位置橫線，對鍍膜質(zhì)量進(jìn)行必要的觀測檢驗記錄

· 卸膜
將鍍膜剩余膜收卷完畢，用吊車小心將成品膜吊裝到托架上，送交凈化室；
· 分卷、分切、入庫保存；
· 包裝、出庫、運(yùn)輸；
· 特別提示
當(dāng)系統(tǒng)發(fā)生故障或供電系統(tǒng)問題引起突然停電時，應(yīng)立即啟動擴(kuò)散泵緊急冷卻系統(tǒng)，方法是：關(guān)閉擴(kuò)散泵主循環(huán)閥，打開自來水總開關(guān)，對爐盤強(qiáng)制冷卻， 冷卻后應(yīng)在下一次使用前用氣管將急冷水吹干。
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