真空鍍膜機(jī)的幾種鍍膜方法

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真空鍍膜技術(shù)，簡(jiǎn)單地來(lái)說(shuō)就是在真空環(huán)境下，利用蒸發(fā)、濺射等方式發(fā)射出膜料粒子，沉積在金屬、玻璃、陶瓷、半導(dǎo)體以及塑料件等物體上形成鍍膜層。它的主要方法包括以下幾種：

真空蒸鍍
其原理是在真空條件下，用蒸發(fā)器加熱膜料，使其氣化或升華，蒸發(fā)粒子流直接射向基片，并在基片上沉積形成固態(tài)薄膜的技術(shù)。

濺射鍍膜

濺射鍍膜是真空條件下，在陰極接上高壓電，激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極靶材，使其射出膜料粒子，并沉積到基片上形成膜層。

離子鍍膜
離子鍍膜通常指在鍍膜過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生大量離子的鍍膜方法。在膜的形成過(guò)程中，基片始終受到高能粒子的轟擊，膜層強(qiáng)度和結(jié)合力非常強(qiáng)。

真空卷繞鍍膜
真空卷繞鍍膜是一種利用各種鍍膜方法，在成卷的柔性薄膜表面上連續(xù)鍍膜的技術(shù)，以實(shí)現(xiàn)柔性基體的一些特殊功能性、裝飾性屬性。

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